佳能发布 FPA-6400ES6a KrF 半导体光刻机,主打高产能与 4.0nm 套刻精度

佳能在 11 月 10 日正式对外发布全新 KrF 氟化氪扫描式半导体光刻机 FPA-6400ES6a,设备计划 2026 年 12 月上旬正式出货,面向